用于各种有机和无机固体材料的表面(一般10nm深度)元素及其价态定性、定量分析,表面元素化学成像及深度剖析。
用于各种有机和无机固体材料的表面(一般10nm深度)元素及其价态定性、定量分析,表面元素化学成像及深度剖析。
| 设备参数
1.Al KαX射线源,束斑尺寸:5um-400um,范围内可调,调节精度≤1um,对 Ag3d5/2 峰,半高宽≤0.48eV
2.能够采谱分析、化学态成像、二次电子影像,同时具有快速平行成像和扫描成像功能
3.能量扫描范围:0-5000eV
4.具有低能离子和电子双束中和模式
5.具有Ar单离子刻蚀和Ar团簇离子刻蚀模式
6.可测反射电子能量损失谱(REELS)、紫外光电子能谱分析(UPS)、扫描俄歇能谱、低能反光电子能谱(LEIPS),以及XPS+UPS+LEIPS
7.可测惰性气体环境下进行样品电化学(偏压、极化)实验,并带有样品转移装置
8.可对样品进行变温测试,温度下限≤-120℃,温度上限≥500℃
| 主要功能
样品表面元素及价态定性和定量分析、样品表面清洁及多层薄膜样品的深度刻蚀、样品的原位电化学变温测试、反射电子能量损失谱(REELS)、紫外光电子能谱分析(UPS)、扫描俄歇能谱、低能反光电子能谱(LEIPS)测试。